Микро- и наноэлектроника–2016

Международная конференция

0.0/5 оценка (0 голосов)
II Российский конгресс «РОСКАТАЛИЗ»

3–7 октября 2016 года в д/о «Ершово» (Звенигород) пройдет Международная конференция «Микро- и наноэлектроника – 2016».


Страна-организатор: Российская Федерация

Место проведения: Звенигород

Дата начала мероприятия: 03.10.16

Категории: Международные мероприятия

Описание мероприятия

3–7 октября 2016 года в д/о «Ершово» (Звенигород) пройдет Международная конференция «Микро- и наноэлектроника – 2016».

Конференция ICMNE охватит большинство областей физики микро- и наноразмерных приборов, а также микро- и наноэлектронных технологий. ICMNE-2016 ориентируют на на освещение последних достижений в этой сфере.

На конференции будет работать выставка, посвященная технологическому и диагностическому оборудованию для микро- и наноэлектронных применений.

Тематика конференции

Материалы и пленки для микро- и наноэлектронных структур:

Si, SOI, DOI, SiGe, A3B5, A2B6, high-k диэлектрики, low-k диэлектрики, металлы для затворов, контактов и систем металлизации наноразмерных приборов, магнитные материалы, наномагнетики, 1D- и 2D-материалы, Материалы для оптоэлектроники, солнечной энергетики, метаматериалы.

Физика и технология микро- и наноразмерных приборов:

тенденции масштабирования: More Moore, beyond CMOS, and more than Moore trends, нанотранзисторы – CMOS FET, TFET, SET, молекулярные и другие, интегральные устройства памяти, DRAM, ReRAM, FeRAM, магнитные микро- и наноструктуры, приборы спинтроники, сверхпроводящие микро- и наноприборы и устройства, приборы оптоэлектроники, фотоники, микро- и наноэлектромеханические системы (MEMS, NEMS), моделирование.

Технологии и перспективное технологическое оборудование для приборов микро- и наноэлектроники:

суб-65 нм литография: DUV, иммерсионная, EUV, электронная и ионная литография, наноимпринт, Front End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС, Back End of Line (BEOL) процессы для технологии УБИС, технологии получения 2D-материалов (графен, MoS2, WS2 и другие), технологии создания МЭМС и НЭМС, технологии создания сверхпроводящих приборов.

Метрология:

методы мониторинга технологических процессов in situ, методы контроля, диагностики и характеризации микро- и наноструктур, квантовая информатика, квантовые компьютеры: теория и эксперимент, квантовые измерения, квантовые алгоритмы, квантовая связь. Рабочий язык конференции – английский. Последний срок отправки тезисов – 1 августа 2016 года.

Дата начала мероприятия 03.10.16
Дата окончания мероприятия 07.10.16
Дата окончания приема заявок 01.08.16
Опубликовано: 08.03.16 11:00
Изменено: 12.07.16 15:38